Deposição química em fase vapor

Deposição química em fase vapor ou “chemical vapour deposition” (CVD) é um processo versátil para construção de filmes sólidos, revestimentos, fibras, componentes monolíticos, entre outros materiais. Com a técnica de CVD é possível fazer deposição de metais, elementos não metálicos e ainda grande quantidade compostos como cabonetos, nitretos, óxidos, compostos intermetálicos e muitos outros. Essa tecnologia é fator essencial, por exemplo, para a indústria de semicondutores e outros componentes eletrônicos, em componentes óticos e optoeletrônicos, foto-senssíveis e revestimentos. Produtos provenientes dessa tecnologia têm um mercado em grande expansão no mundo moderno. Tecnologia de CVD pode ser aplicada em todos os campos da nanociência e nanotecnologia. Fazendo uso dessa tecnologia inovadora a indústria de transformação gera produtos com elevado valor agregados, além disso, o desenvolvimento dessa técnica tem permitido a indústria a avançar rumo a tecnologias mais avançadas, com produtos mais eficientes em desempenho e qualidade. Citando alguns exemplos de produtos comerciais que usam de CVD na sua fabricação, notório a aplicação em áreas muito avançadas como: - Difusão de camadas em semicondutores avançados em circuitos integrados de nitretos de titânio; - Revestimento de carbono tipo diamante em componentes da indústria têxtil aumentando a resistência dos tecidos; - Metalização de semicondutores com deposição de cobre minimizando a eletro mitigação. CVD é o…

Revestimentos e Tratamentos Superficiais Revestimentos por Deposição Química de Vapor (CVD) Belo Horizonte Julho, 2013 1 - Definição de Deposição Química de Vapor (CVD) Sendo uma forma eficaz de construção de uma ampla gama de componentes e produtos com uma quantidade potencialmente diferente de materiais, Deposição Química de Vapor, ou do inglês Chemical Vapour Deposition (CVD) foi desenvolvida desde a sua criação como um processo de fabricação em vários setores…

superior envolto em um material com índice de refração inferior (LEITE, 1992). 6.1 Sílica e vidro 6.1.1 Deposição As técnicas mais utilizadas na fabricação de fibras de sílica são a de Deposição de Vapor Químico (Chemical Vapor Deposition – CVD). Nessa técnica os materiais utilizados, a sílica e os óxidos dopantes, são sintetizados em forma de vapor a alta temperatura. A forma como é feita a deposição desse vapor dá origem a duas categorias de fabricação: externa e interna. Essas…

PVD PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD) O processo physical vapor deposition tem por objetivo formar uma camada de revestimento no substrato por deposição física de átomos, íons ou moléculas do elemento a ser depositado. Existem três principais técnicas para a aplicação do PVD, sendo elas: Evaporação Térmica, Sputtering e Metalização Iônica. Evaporação Térmica envolve o aquecimento do material até que este forme vapor que se condensa no substrato. Formando um revestimento. Sputtering…

O que é CVD? Chemical vapor deposition (CVD) é um processo químico utilizado para a produção de materiais sólidos de alta pureza e de alto desempenho. O processo é frequentemente utilizado na indústria de semicondutores para produzir filmes finos. Num processo típico de CVD, a pastilha (substrato) é exposta a um ou mais precursores de voláteis, que reagem e / ou decompõem-se na superfície do substrato para produzir o depósito pretendido. A deposição química a…

PVD Coberturas por Deposição Física de Vapor (PVD) são formadas em temperaturas relativamente baixas (400-600°C). O processo envolve a evaporação de um metal que reage, por exemplo, com nitrogênio para formar uma cobertura de nitreto dura na superfície da ferramenta de corte. As coberturas PVD agregam resistência ao desgaste à uma classe devido à sua dureza. As tensões de compressão das coberturas também agregam tenacidade à aresta e resistência contra trincas térmicas. Os principais…

material de índice de refração inferior, segundo espessuras e concentrações bem determinadas. As técnicas de fabricação de preformas baseiam-se num processo de deposição de vapor químico (Chemical Vapor Deposition - CVD), bastante utilizado na fabricação de semicondutores, onde a sílica e os óxidos dopantes são sintetizados por oxidação em estado de vapor a alta temperatura. O modo como é feito a deposição de vapor químico dá origem a duas categorias básicas de técnicas de fabricação de…

DESGASTE Filmes de Diamante (Processo CVD – Chemical Vapor Deposition) JHONNY DIAS VÍTOR TOTOLA FEVEREIRO/2015 Formas Alotrópicas do Carbono • Alotropia: um mesmo elemento químico é capaz de formar várias substâncias simples com características e propriedades diferentes; • São conhecidas quatro formas alotrópicas do carbono, além da amorfa: grafite, diamante, fulerenos e nanotubos; • A forma amorfa é a forma presente na maioria dos carvões e na fuligem. Diamante • substância…

Processo PVD (Physical Vapor Deposition) O processo PVD (Deposição física de vapor) é uma técnica de deposição de filmes finos (metálicos ou cerâmicos) através da vaporização destes materiais em câmaras especiais. De forma geral este processo envolve controle de aquecimento, potencial e pressão. O processamento PVD é feito sob alto vácuo e temperaturas que variam entre 150° e 500 °C. O material de revestimento sólido de alta pureza (metais como titânio, cromo e alumínio) é evaporado por…

Óptica MCVD Deposição Interna de Vapor Químico Colapsamento PCVD OVD Deposição Externa de Vapor Químico Puxamento Dopagem Adicional Figura 2: Fluxograma do Processo Produtivo da Fibra Óptica. Fonte: Autores baseado em Jesus (2013) MCVD (Deposição de Vapor Químico Modificado) Figura 3 - Processo MCVD. Fonte: Fibracem (2015). MCVD – Desempenho do Processo • Taxa de deposição: 0,5 g/min; • Perdas: limitada apenas a perdas de espalhamento; 0,6 a 0,7 dB/km (1,3µm); • Restrições:…