CVD revestimentos superficiais

Revestimentos e Tratamentos Superficiais

Revestimentos por Deposição Química de Vapor (CVD)

Belo Horizonte
Julho, 2013
1 - Definição de Deposição Química de Vapor (CVD)
Sendo uma forma eficaz de construção de uma ampla gama de componentes e produtos com uma quantidade potencialmente diferente de materiais, Deposição Química de Vapor, ou do inglês Chemical Vapour Deposition (CVD) foi desenvolvida desde a sua criação como um processo de fabricação em vários setores industriais. Notavelmente, estes incluem a indústria de semicondutores, a indústria de cerâmica e assim sucessivamente. A tendência de expandir suas aplicações de semicondutores e microeletrônica e produção em massa inicial para uma ampla gama de aplicações ganhou impulso nos últimos anos, como resultado de intensa pesquisa e trabalho.
Uma definição mais prática e comum de CVD é que ela é um complexo processo de depósito de materiais sólidos a uma temperatura elevada, como resultado de uma reação química. Esta deposição forma um tipo especial de material vulgarmente conhecido como cristal ordenada cultivadas a partir de vapor. Assim, é um processo pelo qual uma película sólida fina é depositada sobre um substrato através de reações químicas das espécies gasosas. Para aplicações de componentes estruturais, a deposição normalmente tem lugar a uma temperatura de cerca de 1000 ° C. Trata-se de processos que se distinguem pela sua reatividade.
Em um processo CVD, os gases reagentes, normalmente chamados gases precursores, são fornecidos para uma câmara de reação a uma temperatura adequadamente determinada. Quando eles passam através do reator, estes gases entram em contato com um substrato aquecido, para depois se reagir e formar uma camada de SiC sólido depositado sobre a superfície de um substrato. Geralmente, um gás inerte, tal como atmosfera de Ar, é utilizado como um gás diluente. A temperatura e a pressão do depósito são os parâmetros críticos neste processo. Após as