Relatório de iniciação cientifica

RELATÓRIO FINAL

Deposição e caracterização de filmes de TiN e TiO2 dopados com nióbio: estudo da polarização do substrato no processo de nucleação dos filmes.
Luis César Fontana1, David William Cordeiro Marcondes2 , Joel Stryhalski3, Abel A. C. Recco4

Palavras-chave: Nucleação, Filmes TiO2, Sputtering.

Resumo
Neste trabalho foram obtidos filmes de Ti6Al4VO2 pelo processo de deposição Triodo
Magnetrom Suptutering (TMS) em um substrato de titânio hidretado. Foram utilizadas diferentes tensões de polarização do substrato com o objetivo de alterar o processo de nucleação do filme. O estudo da polarização do substrato foi caracterizada pela curva tensão x corrente no alvo, onde observou-se que a corrente passa por uma região de máximo valor quando a polarização é de 200V. Os filmes foram caracterizados por EDX para análise da composição química e espessura do filme.
Abstract
This work were obtained films Ti6Al4VO2 by triode magnetron deposition process
Suptutering (TMS) on a titanium hidreted substrate. We used different substrate bias voltages in order to change the nucleation process of the film. The study of the polarization of the substrate was characterized by a voltage-current curve at the target, where it was observed that the current passes through a region of maximum value when the polarization is 200V.Os films were characterized by
EDX for analysis of chemical composition and thickness of the film.

1. Introdução
O estudo de filmes finos é seguramente um dos campos mais explorados pela ciência e engenharia devido ao seu potencial grande potencial tecnológico. Os filmes finos consistem em uma tênue camada de um material que recobrem a superfície de algum outro corpo material. Suas aplicações vão desde a microeletrônica, na fabricação de semicondutores, e se estendem até mesmo para aplicação com fins decorativos. Encontramos filmes finos em nossos computadores e superfícies de lentes de maquinas fotográficas, bem como a industria,