Nanoestruturas de Óxido de Ferro

Nanoestruturas de Óxido de Ferro

3.1. Preparo do Substrato Antes de serem utilizados na síntese, os substratos de vidro transparente com camada condutora de óxido de estanho dopado flúor – FTO (SnO2:F) – foram lavados com detergente neutro e água destilada a uma temperatura de aproximadamente 60° C, depois tratados em um forno convencional com intuito de melhorar a aderência do filme no substrato. A temperatura do forno variou entre a temperatura ambiente e a máxima de 500° C, na taxa de 1° C/min. O substrato foi deixado por 1 hora à temperatura máxima e, posteriormente, foi resfriado a uma taxa de 1° C/min. Após o tratamento térmico, o substrato era submetido a uma lavagem adicional com extran, água deionizada e acetona, seguindo para Hidrofilização e a síntese. 3.2. Síntese de Filmes de Óxido de Ferro A síntese dos filmes de óxido de ferro foi realizada com base na metodologia originalmente proposta e conhecida como Purpose Built Material [1]. A partir dessa metodologia, recentemente em nosso grupo foram propostas algumas modificações [2-4]. Neste trabalho foram preparadas soluções precursoras de ferro, de acordo com Carvalho e colaboradores [4 - 5]. A primeira etapa após preparadas as soluções foi mergulhar os substratos de FTO em um frasco autoclavavelautolavável e submete-los a condições de temperatura e pressão controladas por micro-ondas (ver esquema da figura 1). Welhyn inserir a figura no texto: entrar no word ir no inserir – imagens e então calocar o arquivopara ele não ficar dançando no meio do texto.
Figura 1. Esquema ilustrativo dos procedimentos tomados utilizados para a síntese dos filmes de óxido de ferro sobre substratos de FTO, utilizando o microondas (300 MonowaveTM, ANTON PAAR).

O esquema da figura 1 mostra alguns detalhes do processo de síntese dos filmes de óxido de ferro. As variações de tempo e rampa de síntese, representam condições para se controlar a pressão e potência do micro-ondas, onde foram propostas processos de