Moore s law2

Moore’s law at the extremes

Física dos Semicondutores
30/07/15

Introdução
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As previsões de que a lei de Moore está prestes de bater contra uma parede (limite físico).

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Mas a litografia ótica até agora confundia os profetas da desgraça, conseguindo gravar detalhes nunca mais finos para Si .

Introdução(2)
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Agora, porém , os limites são realmente à vista , deixando os fabricantes de chips se perguntando o que a tecnologia pode levá-las para a frente para a marca de um bilhão de transistores em um chip.

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Um sucessor será finalmente necessário para
CMOS . A resposta provável para estas perguntas pode parecer surpreendente.

Evolução da Fotolitografia
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A fotolitografia passou da 248 nm de comprimento de onda do laser padrão a produzir rotineiramente a um comprimento de onda 193 nm, o que parecia um grande desafio.
No entanto, mesmo que os fabricantes de chips estão começando a preparar-se para a tecnologia 157 nm ultravioleta profundo ( DUV ) como o próximo passo
As previsões são de que 10 GHz clock do microprocessador velocidades , em comparação com o actual 2.8 GHz state-of -the-art , deve ser alcançada até 2006.

Limitações
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Mas , por causa das limitações físicas fundamentais , que é quase tão longe quanto a litografia óptica convencional pode em melhorar resolução , reduzindo o comprimento de onda de imagem. 

Comprimento de onda de 157 nm , gerada por lasers de flúor, já está à beira UV do espectro visível e que se deslocam para além desta leva-nos para o reino de UV de vácuo e raios-X.
Como materiais de lentes atuais são opacas nestes comprimentos de onda , técnicas ópticas existentes podem já não tem nada a contribuir.

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A sabedoria convencional diz que padronização na escala de apenas algumas dezenas de nanômetros requer completamente novas tecnologias , utilizando elétrons ou íons.

Novos limites
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No entanto , a descoberta de que existe uma banda na região de "moles" de raios - X ( 2-50 nm ) passível de técnicas ainda