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tura gasosa constituídas de íons positivos e negativos, além de partículas neutras, embora a carga global desta mistura seja neutra. A cementaçãoa plasma usa a tecnologia de descargas luminescentes (glow discharger) para fornecer íons de carbono para a superfície da peça. O plasma por descarga luminescente pode ser obtido e mantidocolocando-se dois eletrodos metálicos dentro de um tubo de vidro evacuado, no qual foi injetado gás a baixa pressão (da ordem de 1,0 torr) e aplicando-se uma diferença de potencial de algumas centenas de voltsnestes eletrodos. Formam-se no tubo várias regiões de descargas visíveis. Para a cementação, apenas as descargas muito próximas do catodo são relevantes, pois, nessa região, o campo alétrico é maispotente e as velocidades dos elétrons suficientemente altas para provocarem a dissociação das moléculas do gás contido no tubo. Como esta éregião é muito próxima do catodo, fica mais fácil para os íonsformados atingirem a superfície do catodo e serem absorvidos por ela.
Reações principais
O processo de cementação iônica é mais rápido que o de cementação a gás. Se o metano (CH4) for usado, porexemplo, na cementação a gás, ocorrerão várias reações de decomposição desse gás (em CH3, depois CH2, depois CH, para finalmente, haver liberação do carbono ativo (C), que irá se dissolver no aço). Acamada cementada na cementação iônica é a mais uniforme que na cementação a gás ou a vácuo, especialmente em regiões de acesso mais difícil, como raiz dos dentes de uma engrenagem, por exemplo.Vantagens
Outra vantagem da cementação iônica é o seu maior poder de manter uma camada uniforme em furos da peça. A cementação a vácuo demonstrou manter uma camada uniforme dentro de furos com relaçãoaltura/diâmento (L/D) até 7, enquanto a cementação a gás mantece até 9 e a iônica até 12.