Deposição química em fase vapor

Deposição química em fase vapor ou “chemical vapour deposition” (CVD) é um processo versátil para construção de filmes sólidos, revestimentos, fibras, componentes monolíticos, entre outros materiais. Com a técnica de CVD é possível fazer deposição de metais, elementos não metálicos e ainda grande quantidade compostos como cabonetos, nitretos, óxidos, compostos intermetálicos e muitos outros. Essa tecnologia é fator essencial, por exemplo, para a indústria de semicondutores e outros componentes eletrônicos, em componentes óticos e optoeletrônicos, foto-senssíveis e revestimentos.
Produtos provenientes dessa tecnologia têm um mercado em grande expansão no mundo moderno. Tecnologia de CVD pode ser aplicada em todos os campos da nanociência e nanotecnologia. Fazendo uso dessa tecnologia inovadora a indústria de transformação gera produtos com elevado valor agregados, além disso, o desenvolvimento dessa técnica tem permitido a indústria a avançar rumo a tecnologias mais avançadas, com produtos mais eficientes em desempenho e qualidade. Citando alguns exemplos de produtos comerciais que usam de CVD na sua fabricação, notório a aplicação em áreas muito avançadas como:
- Difusão de camadas em semicondutores avançados em circuitos integrados de nitretos de titânio;
- Revestimento de carbono tipo diamante em componentes da indústria têxtil aumentando a resistência dos tecidos;
- Metalização de semicondutores com deposição de cobre minimizando a eletro mitigação. CVD é o processo mais usado para produção de componentes semicondutores;
- Revestimentos de dispositivos ópticos de economia de energia de vidro estruturado, produzido in situ durante o processo de produção;
- Fibras de boro que são extremamente rígidas e resistentes e são usadas no reforço de estruturas em projetos aeroespaciais;
- Filmes de diamantes de alta condutividade térmica depositado em distribuidores de calor para dissipar o calor em circuitos integrados de alta densidade.
CVD pode ser definido como