tratamento termoquimico

5-Cementação Iônica ou a Plasma
Conceito
É uma mistura gasosa constituídas de íons positivos e negativos, além de partículas neutras, embora a carga global desta mistura seja neutra. A cementação a plasma usa a tecnologia de descargas luminescentes (glow discharger) para fornecer íons de carbono para a superfície da peça. O plasma por descarga luminescente pode ser obtido e mantido colocando-se dois eletrodos metálicos dentro de um tubo de vidro evacuado, no qual foi injetado gás a baixa pressão (da ordem de 1,0 torr) e aplicando-se uma diferença de potencial de algumas centenas de volts nestes eletrodos. Formam-se no tubo várias regiões de descargas visíveis. Para a cementação, apenas as descargas muito próximas do catodo são relevantes, pois, nessa região, o campo alétrico é mais potente e as velocidades dos elétrons suficientemente altas para provocarem a dissociação das moléculas do gás contido no tubo. Como esta éregião é muito próxima do catodo, fica mais fácil para os íons formados atingirem a superfície do catodo e serem absorvidos por ela.
Reações principais
O processo de cementação iônica é mais rápido que o de cementação a gás. Se o metano (CH4) for usado, por exemplo, na cementação a gás, ocorrerão várias reações de decomposição desse gás (em CH3, depois CH2, depois CH, para finalmente, haver liberação do carbono ativo (C), que irá se dissolver no aço). A camada cementada na cementação iônica é a mais uniforme que na cementação a gás ou a vácuo, especialmente em regiões de acesso mais difícil, como raiz dos dentes de uma engrenagem, por exemplo.
Vantagens
Outra vantagem da cementação iônica é o seu maior poder de manter uma camada uniforme em furos da peça. A cementação a vácuo demonstrou manter uma camada uniforme dentro de furos com relação altura/diâmento (L/D) até 7, enquanto a cementação a gás mantece até 9 e a iônica até 12.
Desvantagens
O custo de um sistema de cementação iônica é similar ao de cementação a gás, porém o custo de